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La machine de lithographie EUV High-NA d'ASML d'une valeur de 350 millions d'euros a reçu 10 à 20 commandes
MSN -
14/02
IT House a rapporté le 13 février que le géant néerlandais des équipements de fabrication de semi-conducteurs ASML venait de présenter avant-hier sa machine de lithographie ultraviolette extrême (EUV) à haute ouverture numérique (High-NA) de nouvelle génération, et a également dévoilé sa machine de lithographie High-NA Twinscan EXE. Le prix est d'environ 350 millions d'euros (NDLR : actuellement environ 2,716 milliards de yuans). En comparaison, le prix des machines de lithographie EUV existantes est d'environ 170 millions d'euros (actuellement environ 1...
IT House a rapporté le 13 février que le géant néerlandais des équipements de fabrication de semi-conducteurs ASML venait de présenter avant-hier sa machine de lithographie ultraviolette extrême (EUV) à haute ouverture numérique (High-NA) de nouvelle génération, et a également dévoilé sa machine de lithographie High-NA Twinscan EXE. Le prix est d... [Courte citation de 8% de l'article original]
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